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高溫石墨化爐

PI導熱石墨片臥式高溫石墨化爐

聚酰亞胺薄膜(Polyimide縮寫為PI)經高溫碳化,石墨化處理,可制的具有高導熱性能的石墨片。PI導熱石墨片立式高溫石墨化爐是專門針對PI石墨化工藝設計的一款高性價比的石墨化設備,已經廣泛應用于導熱石墨片行業,獲得用戶廣泛好評。


臥式高溫石墨化爐是專門針對PI石墨片連續卷材石墨化生產工藝設計的專用石墨化爐,具有裝爐量大,進、出爐方便,溫度均勻等特點。經本臥式爐生產的連續式卷材石墨片厚度均勻,在后端壓制時,無亮邊,無明顯色差,壓延過程不容易斷裂,壓延速度快無氣泡。

設備特點:

  • 常用于3000℃以內的超高溫熱處理
  • 用于各種碳材料的碳化和石墨化實驗、中試、生產。
  • 碳素材料的碳化、石墨化,炭纖維燈絲的定型石墨化及其它可在碳環境下燒結或熔煉的材料。
  • 可用于處理PI導熱石墨片、鋰電池負極材料 、石墨改性,制備高模量纖維等
設備配置:
  • 最高使用溫度:3000℃ 常用溫度:2800℃
  • 工作氣氛:真空置換Ar、N2保護(微正壓)
  • 溫度測量:紅外光學測溫,測溫范圍1000-3000℃ 測溫精度:0.3%
  • 溫度控制:PID智能程序控制(控溫精度:±10℃)和手動控制
  • 控制方式:PLC編程自動控制 儀表實時記錄.
  • 具備USB接口,可隨時將記錄的歷史數據通過U盤轉存到電腦,具備密碼保護,輸入密碼才能導出,確保工藝保密性
  • 發熱方式:中頻感應石墨坩堝發熱
  • 保護裝置:全方位的水電氣測控與報警


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有關導熱石墨片片材的石墨化處理,您需要關注PI導熱石墨片立式高溫石墨化爐

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單位

CX-GFW-R40/100

CX-GFW-R50/100

CX-GFW-R60/120

CX-GFW-S40/100

CX-GFW-S50/100

CX-GFW-S60/100

坩堝有效容積

mm

Φ400*1000

Φ500*1000

Φ600*1000

400*1000

500*1000

600*1200

中頻電源功率

Kw

200

250

250

250

250

250

中頻電源頻率

Hz

2000

2000

2000

2000

2000

2000

最高工作溫度

3000

3000

3000

3000

3000

3000

極限真空度

Pa

1.2*10-1

1.2*10-1

1.2*10-1

1.2*10-1

1.2*10-1

1.2*10-1

壓升率

Pa/h

1.33

1.33

1.33

1.33

1.33

1.33

恒溫區溫差

±10

±10

±10

±10

±10

±10




 

 
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